식각의 사전적 의미는 금속이나 유리의 표면을 부식시켜 모양을 조각한다는 뜻이다. 디스플레이에서 말하는 식각이란 TFT의 회로 패턴을 만들 때, 필요한 부분만 남기고 불필요한 부분은 깍아내는 공정을 의미한다. 식각에 앞서 [노광]→ [현상]과정이 진행되므로, 기판에는 회로패턴을 남겨야 할 부분에만 PR이 남는 상태가 된다 이때 PR은 식각 공정이 진행될 때 해당 위치 아래의 물질이 식각되지 않도록 방어막 역할을 해준다. 식각 과정이 이루어지면, 그림에서 오른쪽과 같이 PR이 없는 부분이 제거되고, PR이 있는 부분에만 회로에 사용될 물질이 남게 된다. 

 식각 공정은 식각 반응을 일으키는 물질의 상태에 따라 습식, 건식으로 나뉜다. 습식 식각은 용액을 이용 화학적인 반응을 통해 식각하는 방법이며, 건식 식각은 반응성 기체, 이온 등을 이용해 특정 부위를 제거하는 방법이다. 

1. Work Size: 6"*6"

2. 방식: Spin etching 방식

3. Spin Table 교환: Head 착탈식

4. Spin Speed: 3 steps-저,중,고

5. Spin Table 재질: Teflon