플라즈마 클리너
Plasma Cleaner
Plasma 방전을 이용하여 기판의 유기 이물질 제거 및 기판의 표면처리에 이용
플라즈마 클리너는 프로세스 챔버 안으로 낮은 압력(약 1~5 torr)의 프로세스 가스(일반적으로 O2 또는 Ar)를 흐르게 하고, 마이크로파 에너지를 가하여 플라즈마 방전을 발생시키는 장비이다.
이 과정을 통해 이온화 된 가스나 자유 라디칼 등이 생성되며, 챔버 내에서 물리적인 충돌 또는 화학적인 반응을 하여 표면의 불순물 제거 및 wettability 향상 등의 효과가 있다.
1. Water Cooled Reactor (Plasma-preen II 973 with 9inch X 7inch X 3inch reaction chamber)
- Includes following items
: Power supply(115VAC 15Amp service grounded), flow meter with needle valve,
Vent valve, time control, duty cycle control reaction chamber
2. Vaccum Pump (Model 205SDMLAM)
with 4 lbs. Non-combustible oil, anti-suck back valve, oil mist eliminator, all fittings and universal motor
3. Water Recirculating Unit
4. Gas Control Panel Ion Trap (Faraday cage to protect sensitive components)